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  • 삼성전자, HBM5 베이스 다이에 '2나노' 적용…속도 50%↑ 예상된다"며 "베이스 다이에 게이트올어라운드(GAA) 구조를 적용한 2나노 공정을 도입하고 더욱 높은 집적도 실리콘관통전극(TSV)을 구현할 계획"이라고 밝혔다.베이스 다이는 HBM 적층 구조 설명했다.그러면서 "전사 태스크포스(TF)를 가동해 첫 번째 샘플부터 성능과 수율 목표를 달성했고, 약 3개월 만에 양산체계를 구축했다"고 덧붙였다.그는 메모리와 파운드리, 첨단 패키징(TSP zdnet.co.kr · 2026.07.27

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