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Ion Implantation[IIP or IMP]의 특징과 Annealing
Si Doping을 하는 여러가지 방법이 있는데, 열적산화(
Thermal
Oxidation
)를 이용하거나, 고온에서의 Diffusion을 이용하는 방법 등이 있다.
blog.naver.com · 2020.04.02