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• (속보) CXMT, G5 기술 플랫폼 개발 단계 진입: 다중 노출로 밀도 높인다 CXMT, G5 기술 플랫폼 개발 단계 진입: 다중 노출로 밀도 높인다 중국 최대 DRAM 제조사인 CXMT(창신메모리테크놀로지)가 차세대 G5 기술 플랫폼 개발에 돌입했습니다. 플랫폼은 16nm 피처 사이즈(F)를 구현하며, 삼성, SK하이닉스, 마이크론의 D1z 세대(15.8~16.2nm)에 해당하는 수준입....... blog.naver.com · 2026.07.15